堿性無氰光亮鍍鋅工藝
一、工藝特點
1．本產品不含氰，安全無毒，適用于掛鍍和滾鍍；
2. 鍍液耐高溫、高鹽能力良好，沉積速率快，深鍍及均鍍能力優良，不易燒焦和漏鍍；
3. 鍍層不容易起霧，光亮度及延展性好，不易產生沙孔；
4. 鍍層易于后續三價鉻和六價鉻的鈍化處理工藝。
二、鍍液組成及操作條件：
工藝參數 | 操作范圍 | 最佳 |
金屬鋅（Zn2+）， g/L | 8-14 | 10 |
氫氧化鈉（NaOH）， g/L | 120-150 | 130 |
無氰堿鋅開缸劑， ml/L | 8-12 | 10 |
無氰堿鋅走位劑， ml/L | 8-14 | 10 |
無氰堿鋅光亮劑， ml/L | 1-3 | 2 |
溫 度，℃ | 20-30 | 25 |
陰、陽極比例 | 1：1 - 3：1，陽極采用鐵板 |
陰極電流密度 | 滾鍍 | 0.5-1.0 A/dm2， 6-12V |
掛鍍 | 1.0-4.0 A/dm2， 2-6V |
攪拌方式 | 滾鍍 | 4-8 轉/分鐘 |
掛鍍 | 機械移動，20-30 次/分鐘 |
設備要求 | 過濾 | 每小時2-3個循環 |
排氣 | 建議槽邊抽風改善操作環境 |
溫控 | 加溫和冷卻管道宜采用不銹鋼或鈦材質 |
溶鋅槽 | 1/3體積鍍液大小，鋼襯PVC，PP等塑料 |
三、鍍液配制：
1. 洗凈溶鋅槽和溶鋅筐后，在溶鋅槽中加1/2純水，將總量1/3—1/2的氫氧化鈉加入溶鋅槽中，攪拌溶解；把0號的鋅板裝入鐵溶鋅筐中，放入已溶解完畢的溶鋅槽中使鋅板溶解；
2．余量的氫氧化鈉在鍍槽中溶解好，當溶鋅槽中的鋅含量達到鍍液所需濃度時，停止溶鋅，開啟過濾機使溶鋅槽和鍍槽混合，同時過濾溶液。鍍液經反復分析調整，直到鍍槽溶液中鋅和堿含量達到標準為止；
3．將計算好的開缸劑添加入鍍槽攪拌均勻；掛好陽極，然后用小電流電解數小時；
4. 然后再加入計量好的走位劑和光亮劑，稍加電解后即可試產。
注意：最好用純水配制鍍液，用自來水配制，硬度不能高于25度。配制過程中注意溫度控制。
四、鍍液的維護：
1. 鋅的作用及補充：提供金屬離子鋅，對鍍液的走位、光亮度以及沉積速度有較大影響，應經常根據分析結果調整，防止濃度波動較大?？刹捎描F溶鋅筐中裝鋅板放于溶鋅槽中溶解的方式補充鋅，注意鋅板和鐵筐保持良好接觸以促進鋅板的溶解。
2. 氫氧化鈉的作用及補充：鍍液的良好導電載體以及金屬鋅的絡合劑，對鍍液的導電能力和走位有較大影響，應經常根據分析結果調整，并注意控制氫氧化鈉和鋅的比例。
3. 開缸劑的作用及補充：用于消除配槽過程中水質以及材料帶來的鈣、鎂以及銻等雜質的影響，增加鍍液的分散和深鍍能力，日常消耗不需要補充，常在補充氫氧化鈉的時候補充，參考補充量為每添加100kg的氫氧化鈉可補充開缸劑5L，更多補充量必須依靠實驗確認。
4. 走位劑的作用及補充：基礎載體，提供良好的細化結晶和鍍層分布能力，配槽時用量與金屬鋅的濃度直接相關， 1g/L的鋅對應1ml/L的走位劑。走位劑偏少時，深鍍及分散能力變差；過量則會導致沉積速度變慢。日常消耗與鋅的濃度、帶出量以及鍍層厚度分布有關，參考補充量為100-200 ml/KAH。
5. 光亮劑的作用及補充：主要的光亮劑，與走位劑并用，可提供高中低區的整體均勻亮度。光亮劑偏少時，亮度不足，發白霧朦；過量則影響走位，應力變大。日常消耗參考補充量為100-200 ml/KAH。
6. 其它輔料：
6.1 除雜劑：主用于凈化鍍液重金屬雜質如鉛、銅等，其消耗取決于鍍液的純度，通?？梢詤⒖細溲趸c的補充量來添加，每添加100kg的氫氧化鈉可補充除雜劑5L。
6.2調整劑：主用于特別復雜的工件電鍍，要求高低區厚度特別均勻時方可酌量添加，添加量依據實驗確定。一次加入量不宜大，否則會顯著降低沉積效率。
